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電鍍液凈化系統(tǒng)

電鍍液凈化系統(tǒng)

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詳細(xì)介紹

一、HEYI-T3簡(jiǎn)況

1、可以為鍍鋅鎳、鍍鋅以及其他電鍍品種凈化電解質(zhì)液體和廢水

2、可以消除電解液、清洗槽以及其他濃縮液不需要的雜質(zhì)。

· 全自動(dòng)控制系統(tǒng)的設(shè)備

· 低能量消耗

· 耐腐蝕材料制成

· 簡(jiǎn)潔而便于安裝

二、HEYI-T3的應(yīng)用領(lǐng)域

1、堿性鋅鎳、堿性鍍鋅、堿性鋅銅、氰化銅、氰化黃銅、氰化青銅、氰化鎘、氰化銀、氰化錫

2、祛除浸在硫酸液中的硫酸鐵;

3、有要求的其他所有應(yīng)用

三、HEYI-T3的工作原理

將要處理的液體從槽體里抽岀,然后將抽岀的液體冷卻到提前設(shè)置好的溫度。雜質(zhì)被過(guò)濾器過(guò)濾岀來(lái)并帶走,然后千凈的液體被抽回到槽體中,一直循環(huán)這個(gè)過(guò)程直到液體達(dá)到期望的效果。

優(yōu)勢(shì):

1、提高槽液的電流效率

2、槽液更長(zhǎng)的使用壽命

3、低能量消耗

4、節(jié)約化學(xué)品的消耗

5、生產(chǎn)時(shí)間不曾中斷

6、廢水少

7、勞動(dòng)成本低(機(jī)器自動(dòng)化)

四、HEYI-T3的基本數(shù)據(jù)

1、凈化系統(tǒng)處理前后槽液成份對(duì)比(鋅鎳槽液)

主要成分測(cè)定值(g/l)
原槽液冷凍機(jī)中槽液2℃由此我們可以得到HEYI-T3凈化系統(tǒng)主要是去除鋅鎳槽液中的碳酸鈉
NaOH115.9130.9↑
Zn6.17.0↑
Ni1.31.5↑
Na2CO375.325.4↓
TOC38.545.4↑

2、凈化系統(tǒng)處理后碳酸鈉混合物中各成分含量

結(jié)晶混合物主要成分比例
NaOH14.5%
Na2CO326.7%
水分47.8%
其他11%


3、凈化系統(tǒng)的產(chǎn)能

1、目前HEYI-T3系統(tǒng)毎處理一個(gè)循環(huán)(將槽液從28攝氏度降溫到2攝氏度),大約需要1小時(shí)左右;每天(24小時(shí))大約可以處理1200L槽液;

2、鍍槽中的碳酸鈉含量為75.3g∧,后經(jīng)ⅥSL-T3系統(tǒng)處理后,槽液中碳酸鈉含是25.4g/l;

3、HEYI-T3系統(tǒng)單日處理碳酸鈉的量為:1200*(75.3-25.4)=59.8kg;

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